稀土氧化鈰拋光粉（0.7-1.1微米），適用於晶圓
描述：
稀土氧化鈰拋光粉（0.7-1.1μm）是一種高純度、亞微米級的氧化鈰（CeO₂，也稱為二氧化鈰）基研磨材料。它具有獨特的化學和機械拋光機制。氧化鈰晶圓拋光粉廣泛應用於半導體晶圓、光學元件和電子基板的精密拋光，也適用於配製晶圓拋光漿料。
用於晶圓的稀土氧化鈰拋光粉（粒徑0.7-1.1μm）的特性：
| CAS號 | 1306-38-3/1312-81-8 |
| 公式 | 氧化鈰(CeO2)/氧化鑭(La2O3) |
| 外貌 | 白色粉末 |
| 我們不。 | 215-150-4/215-200-5 |
| 真實密度 | 6.5-7 克/立方厘米 |
| 熔點 | 2400攝氏度 |
| 沸點 | 3500攝氏度 |
典型化學分析[%]：
| 物品 | 保證價值 | 典型值 | |
| 語言 | ≥94 | 94.42 | |
| 稀土雜質/REO | La2O3 | 32-36 | 34.94 |
| 二氧化鈰 | 64-68 | 64.57 | |
| Pr6O11 | ≤0.2 | 0.007 | |
| Nd2O3 | ≤0.2 | 0.002 | |
| 非稀土雜質 | Fe2O3 | ≤0.04 | 0.033 |
| 氧化鋁 | ≤0.5 | 0.289 | |
| 高的 | ≤1.5 | 0.04 | |
| 氧化鎂 | ≤0.5 | 0.104 | |
| 二氧化矽 | ≤0.1 | 0.019 | |
應用領域：
用於光學玻璃、積體電路基板玻璃、電鍍基板玻璃、高精度光學鏡頭、相機鏡頭、航空鋼化玻璃、各種顯示玻璃等十餘種規格型號的產品進行高精度研磨和拋光。它還可以…
用於水鑽、熱鑽、玻璃首飾等。
包裹：
